一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是

A．不做处理，让患者将义齿戴走

B．腭杆组织面加自凝树脂重衬

C．腭杆组织面缓冲

D．取下腭杆

E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

C(E)腭杆与粘膜间间隙过大，患者感觉不舒适，且容易嵌塞食物，应取下重新制作。