硫酸12%—15% 电压14—22伏特 电流1—2A/dm2 温度18—25 时间10—60 膜厚度3—35um

氧化液组成及工艺条件如下：名 称 含量(ml/L)硫酸(H2SO4) 100～200电压/V 12氧化时间/min 20~120电源 直流阴阳极面积比 1。5温度/℃ 20~30平均电流密度/A•dm-2 0。10 1) 当硫酸(H2SO4)溶液浓度较高时得到的膜容易上色,且颜色较深,膜的空隙率较大；当硫酸(H2SO4)溶液浓度较低时,膜上色微慢,且颜色较浅,膜的空隙率较小。所以要想制得吸附力强,富有弹性的膜可以用浓度较高的氧化液,如果要想硬质而耐磨的氧化膜可以用浓度较低的氧化液。2) 阳极氧化时,初始电流密度对氧化膜的结构影响很大。过高的电流密度会使试件的边缘膜出现烧焦状态,还会致使氧化膜非常粗糙。因此,阳极氧化过程中,电流密度应逐步升高到一定值,以后的氧化过程中,电压波动也最好不要超过2V。当电流密度超过3。3 A•dm-2时,随着电流密度的增加,氧化膜的耐蚀性反而降低,但在电流密度不超过3。3 A•dm-2的时候,随着电流密度的增加,氧化膜的空隙率也增多,易于染色,耐蚀性也较好。3) 在1h之内,氧化膜的生长与氧化时间成正比。但氧化时间过长时,由于氧化膜的表面被电解液溶解,氧化膜的孔径逐渐变大,膜层也变得粗糙起来。