磁控溅射镀膜为什么是一种低温沉积技术

镀膜的时候采用高温,主要目的是增加膜材料和基板的结合牢固度,实际上要想达到高温,所需要的设备肯定要比常温镀膜增加不菲的费用的。如果能够,谁都不想。而溅射式镀膜在成熟以后,微粒或者微粒团的能量很大,有效的解决了牢固度问题,所以一般不会去增加温度,也就成了低温沉积技术。从另一个角度讲,蒸发镀膜是把材料熔化成液体再镀膜,一般要1300度以上,属于典型的高温。而溅射镀膜是使用电子激发的方式,把原子级别的粒子团从靶材上喷射出来,属于低温。